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CKD喜开理化学液体手动阀MMD303BJ的应用案例

更新时间:2026-01-20点击次数:13

耐腐蚀型手动阀 超高纯流体场景应用解析

一、产品核心适配特性

MMD303BJ为CKD喜开理MMD系列化学液体手动阀,属于中小口径耐腐蚀机型,采用无金属PFA/PTFE材质组合设计,配管方式适配对应规格SUPER型柱形接头,具备优良的抗腐蚀性能与密封可靠性。该型号专为盐酸、硝酸、双氧水等强腐蚀性化学品及超高纯流体控制设计,仅支持全开/全闭操作,适配中低压工况,广泛应用于对流体洁净度、防污染有严苛要求的制造领域,契合半导体、太阳能、液晶面板等行业的工艺需求。

(一)典型应用案例一:半导体晶圆清洗工艺

在半导体晶圆制造的清洗工序中,需使用盐酸、双氧水混合液等腐蚀性化学品对晶圆表面进行精密清洗,去除制程中残留的杂质与氧化层,保障晶圆后续光刻、蚀刻工艺的精度。MMD303BJ凭借全氟塑料材质特性,可直接适配这类强腐蚀性介质,避免金属部件接触介质产生污染,同时其可靠的密封结构能防止化学品泄漏,保障操作环境安全。
该场景中,MMD303BJ被安装于清洗槽化学品供液支路,负责单路介质的通断控制。由于晶圆清洗对流体洁净度要求高,阀门内部光滑流道可避免介质残留与二次污染,适配超高纯流体传输需求。操作时,工作人员通过手动旋钮快速实现供液启停,90°旋转行程与锁紧结构能精准控制通断状态,避免振动或误触导致工况波动,配合设备整体自动化流程,保障清洗工艺的稳定性与一致性。

(二)典型应用案例二:液晶面板显影液输送系统

液晶面板制造过程中,显影工序需使用特定显影液对光刻胶进行处理,形成预设图案,显影液多为弱碱性化学品,且对纯度要求严格,轻微污染即可能导致面板显示缺陷。MMD303BJ的耐腐蚀材质可稳定适配显影液传输,无金属接触设计避免介质与金属反应产生杂质,同时密封组件能有效阻断显影液泄漏,防止对设备及环境造成腐蚀。

二、其他核心应用场景

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  • 太阳能电池片镀膜前处理:在太阳能电池片制造的镀膜前处理工序中,需使用硝酸等化学品去除电池片表面氧化层与油污,为镀膜工艺做准备。MMD303BJ被用于化学品储存罐至处理槽的供液管路,凭借耐腐蚀性与洁净传输特性,保障前处理效果均匀稳定,避免因介质污染影响电池片转化效率。其紧凑结构适配生产线狭小空间布局,手动操作便捷,便于工作人员日常巡检与工况调整。

  • 超高纯试剂储存与分配系统:在电子化工、医药研发等领域的超高纯试剂储存分配场景中,MMD303BJ可作为支路控制阀门,适配纯水、特种溶剂等超高纯介质的传输。阀门材质无析出物,能有效维持介质纯度,避免二次污染。同时,可靠的密封性能可防止试剂挥发与泄漏,保障储存分配过程的安全性与稳定性,适配实验室及小规模生产的工况需求。

  • 电子元器件酸洗钝化工艺:部分精密电子元器件生产中,需通过酸洗钝化工艺提升表面耐腐蚀性,所使用的酸洗介质多为强腐蚀性溶液。MMD303BJ可适配这类介质的传输控制,安装于酸洗槽进出口管路,实现介质通断与回路切换。其耐磨损密封结构能适应频繁启停操作,延长使用寿命,同时无金属结构设计避免锈蚀问题,减少维护频次,保障生产线连续运行。

三、应用核心优势总结

  • 材质适配优势:全氟塑料材质组合能抵御多数强腐蚀性化学品侵蚀,无金属接触设计从源头避免介质污染,适配半导体、液晶面板等行业的超高纯流体控制需求,这也是其在制造领域广泛应用的核心原因。

  • 工况适配优势:中低压适配特性与可靠密封结构,能稳定应对化学品供液、传输等典型工况,90°旋钮操作与锁紧设计可精准控制通断状态,减少误操作风险,保障工艺稳定性。

  • 场景适配优势:紧凑结构适配生产线狭小空间布局,光滑流道与无残留特性适配频繁启停及洁净传输需求,同时维护便捷,可减少生产线停机时间,提升生产效率,适配大规模量产与小规模研发等多种场景。

补充说明:MMD303BJ在实际应用中,需严格根据介质类型确认材质兼容性,尤其针对特殊腐蚀性化学品,需提前核对适配性。同时需控制工况压力与温度在阀门适配范围,避免超规使用导致密封失效或部件损坏,确保长期稳定运行。
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